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  • 产品名称:Reflexion GT双晶圆CMP系统
  • 产品类别:【CMP系统】
  • 发布日期:2011-10-24 21:37:28
  • 关 键 词:CMP,双晶圆,Reflexion GT
  • 供 应 商:应用材料(中国)有限公司
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Applied Reflexion GT是可在同一平台上同时处理两片晶圆的CMP系统,处理能力比以往其他公司的产品提高60%。Reflexion GT配备两个研磨头,可在一个研磨垫上同时研磨两片晶圆。这样处理能力比以往其他公司的产品提高了60%。设置面积也减少了30%。此外,每块研磨垫的晶圆处理数量也得到增加,因此还可减少研磨垫的成本。而且,为了能够放置两片晶圆,还将研磨垫的直径从30英寸加大到了42英寸,从而延长了研磨液的滞留时间,将研磨液的使用量减少了30%。