IC设计与制造

Qoniac携OVALiS软件亮相SEMICON China 2017

2017-3-16  作者:  来源: SEMI中国 我要评论(0)

核心提示:Overlay Control, Alignment Measurement market减量, 提升微影及量测设备的Throughput


1)提升良率及量产时程 : 制程迭对“Overlay” 控制有效改善及优化及更快的制程稳定

2)有效增加曝光机及量测设备的产能, 因为有效优化对准标记 “Alignment”及迭对 “Overlay”取样(Sampling)

3)进而减少实验、人力、材料及设备时间: 因为OVALis仿真功能, 可有效减少透过实验才可产出的最佳设备优化设定

4)此软件已大量使用在美国、日本、中国、韩国、新加坡及台湾的半导体代工及内存生产工厂中,有显著提升良率及产能的实绩

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